Mælitækni á nanómetrastigi felur í sér: nákvæmnisstærð nanómetrastigs og tilfærslu og mælingu á yfirborðsviðmiðunarmæli. Það eru tvær meginþróunarleiðbeiningar fyrir mælitækni nanómetra.
Ein er ljós truflunartækni, sem notar truflunarjaðar ljóss til að bæta upplausn mælingarinnar. Mælingaraðferðirnar fela í sér: tvöfalda tíðni leysitruflun, ljósfræðilegar truflanir, röntgen truflanir, FP staðall Tækjamælingaraðferð osfrv., Er hægt að nota til að mæla lengd og tilfærslu nákvæmlega og einnig er hægt að nota til að mæla yfirborðs ör -topography.
Önnur er skannamæla smásjá mælingartækni (STM). Grundvallarregla þess er byggð á göngumáhrifum skammtafræðinnar. Meginregla þess er að nota mjög beittan rannsaka (eða svipaða aðferð) til að skanna mælda yfirborðið (rannsaka og Mælda yfirborðið er ekki í snertingu) og þrívíddar smásjá útlit yfirborðsins er mælt með hjálp nanó -stig þrívítt tilfærslu stýringarkerfi. Aðallega notað til að mæla smásjá útlit og stærð yfirborðsins.
Mælingaraðferðir með þessari meginreglu fela í sér: skannagöng smásjá (STM), lotukerfis smásjá (AFM) osfrv.